以鹰酱为首的北约，用电子战瘫痪了南联盟所有的网络通信系统，令种花家极为震惊。

有关部门多次召开研讨会议，讨论一旦鹰酱用这种方式针对我们，国家的信息安全该如何保证。

于是，踏入二十一世纪之后，光刻机技术，再次被重视了起来。但此时，已经落后人家二十多年了。

不过，我们还是下了很大的决心，哪怕是落后一百年，也要干。用当时的话来说就是“现在做这个东西，难度不亚于生产大飞机，影响力不低于当初研究原子弹”。

于是，我们再次从193纳米起步，110纳米、90纳米......

直至2017年，科学院光学精密机械与物理研究所，牵头研发的“极紫外光刻关键技术”通过验收。

2018年科学院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，还可用于制造10纳米级别的芯片。

2021年28纳米的光刻机交付使用，标志着我们可以自己量产28纳米的芯片了。

到了2022年，则是更进了一步，可以生产14纳米的产品。

虽说跟能生产5纳米、甚至3纳米的阿斯麦的极紫光刻机，还有很大一段距离需要追赶，技术的代差相差极大，但至少我们一直在进步，不是吗？